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金相顯微鏡的試樣制備過程是怎樣的?

2021-12-06(2685)次瀏覽

  絕大多數(shù)的金相研究要靠金相顯微鏡這個觀察裝置才能實現(xiàn),金相顯微鏡系統(tǒng)是將傳統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡與計算機通過光電轉(zhuǎn)換有機的結(jié)合在一起,屬于精密光學(xué)儀器,適用于任何標(biāo)準(zhǔn)的生物、體視、金相顯微鏡的拍攝,可以...

  絕大多數(shù)的金相研究要靠金相顯微鏡這個觀察裝置才能實現(xiàn),金相顯微鏡系統(tǒng)是將傳統(tǒng)的光學(xué)顯微鏡與計算機通過光電轉(zhuǎn)換有機的結(jié)合在一起,屬于精密光學(xué)儀器,適用于任何標(biāo)準(zhǔn)的生物、體視、金相顯微鏡的拍攝,可以廣泛的應(yīng)用于醫(yī)療衛(wèi)生機構(gòu)、實驗室、研究所、高等學(xué)校做生物學(xué)、病理學(xué)、細菌學(xué)觀察、教學(xué)和研究、臨床實驗和常規(guī)醫(yī)療檢驗等。那么金相顯微鏡的試樣制備過程是怎樣的呢?下面微谷光電小編來給大家介紹。

  金相顯微鏡的試樣制備過程是怎樣的:

  1、取樣

  從需要檢測的金屬材料和零件上截取試樣稱為“取樣”。取樣的部位和磨面的選擇必須根據(jù)分析要求而定。截取方法有多種,對于軟材料可以用鋸、車、刨等方法;對于硬材料可以用砂輪切片機或線切割機等切割的方法,對于硬而脆的材料可以用錘擊的方法。無論用哪種方法都應(yīng)注意,盡量避免和減輕因塑性變形或受熱引起的組織失真現(xiàn)象。試樣的尺寸并無統(tǒng)一規(guī)定,從便于握持和磨制角度考慮,一般直徑或邊長為15~20mm,高為12~18mm比較適宜。對那些尺寸過小、形狀不規(guī)則和需要保護邊緣的試樣,可以采取鑲嵌或機械夾持的辦法。

  金相試樣的鑲嵌,是利用熱塑性塑料(如聚氯乙烯),熱凝性塑料(如膠木粉)以及冷凝性塑料(如環(huán)氧樹脂+固化劑)作為填料進行的。前兩種屬于熱鑲填料,熱鑲必須在專用設(shè)備一鑲嵌機上進行。第三種屬于冷鑲填料。

金相顯微鏡

  2、粗磨

  粗磨的目的主要有以下三點:

  修整有些試樣,例如用錘擊法敲下來的試樣,形狀很不規(guī)則,必須經(jīng)過粗磨,修整為規(guī)則形狀的試樣;

  磨平無論用什么方法取樣,切口往往不十分平滑,為了將觀察面磨平,同時去掉切割時產(chǎn)生的變形層,必須進行粗磨;

  倒角在不影響觀察目的的前提下,需將試樣上的棱角磨掉,以免劃破砂紙和拋光織物。

  3、細磨

  粗磨后的試樣,磨面上仍有較粗較深的磨痕,為了消除這些磨痕必須進行細磨。細磨,可分為手工磨和機械磨兩種,目前機械磨是主要的磨樣方式。

  目前普遍使用的機械磨設(shè)備是預(yù)磨機。電動機帶動鋪著水砂紙的圓盤轉(zhuǎn)動,磨制時,將試樣沿盤的徑向來回移動,用力要均勻,邊磨邊用水沖。水流既起到冷卻試樣的作用,又可以借助離心力將脫落砂粒、磨屑等不斷地沖到轉(zhuǎn)盤邊緣。機械磨的磨削速度比手工磨制快得多,但平整度不夠好,表面變形層也比較嚴(yán)重。因此要求較高的或材質(zhì)較軟的試樣應(yīng)該采用手工磨制。

  4、拋光

  拋光的目的是去除細磨后遺留在磨面上的細微磨痕,得到光亮無痕的鏡面。拋光的方法有機械拋光、電解拋光和化學(xué)拋光三種,其中最常用的是機械拋光。機械拋光在拋光機上進行,將拋光織物(粗拋常用帆布,精拋常用毛呢)用水浸濕、鋪平、繃緊并固定在拋光盤上。

  啟動開關(guān)使拋光盤逆時針轉(zhuǎn)動,將適量的拋光液(氧化鋁、氧化鉻或氧化鐵拋光粉加水的懸浮液)滴灑在盤上即可進行拋光,拋光時應(yīng)注意:

  試樣沿盤的徑向往返緩慢移動,同時逆拋光盤轉(zhuǎn)向自轉(zhuǎn),待拋光快結(jié)束時作短時定位輕拋。

  在拋光過程中,要經(jīng)常滴加適量的拋光液或清水,以保持拋光盤的濕度,如發(fā)現(xiàn)拋光盤過臟或帶有粗大顆粒時,必須將其沖刷干凈后再繼續(xù)使用。

  拋光時間應(yīng)盡量縮短,不可過長,為滿足這一要求可分粗拋和精拋兩步進行。

  拋有色金屬(如銅、鋁及其合金等)時,最好在拋光盤上涂少許肥皂或滴加適量的肥皂水。

  5、浸蝕

  拋光后的試樣在金相顯微鏡下觀察,只能看到光亮的磨面,如果有劃痕、水跡或材料中的非金屬夾雜物、石墨以及裂紋等也可以看出來,但是要分析金相組織還必須進行浸蝕。

  浸蝕的方法有多種,最常用的是化學(xué)浸蝕法,利用浸蝕劑對試樣的化學(xué)溶解和電化學(xué)浸蝕作用將組織顯露出來。

  純金屬(或單相均勻固溶體)的浸蝕基本上為化學(xué)溶解過程。位于晶界處的原子和晶粒內(nèi)部原子相比,自由能較高,穩(wěn)定性較差,故易受浸蝕形成凹溝。晶粒內(nèi)部被浸蝕程度較輕,大體上仍保持原拋光平面。在明場下觀察,可以看到一個個晶粒被晶界(黑色網(wǎng)絡(luò))隔開。如浸蝕較深,還可以發(fā)現(xiàn)各個晶粒明暗程度不同的現(xiàn)象。這是因為每個晶粒原子排列的位向不同,浸蝕后,以最密排面為主的外露面與原拋光面之間傾斜程度不同的緣故。

  經(jīng)檢查后合格的試樣可以放在浸蝕劑中,拋光面朝上,不斷觀察表面顏色的變化。這是浸蝕法。也可以用沾有浸蝕劑的棉花輕輕擦拭拋光面,觀察表面顏色的變化。此為擦蝕法。待試樣表面被浸蝕得略顯灰暗時即刻取出,用流動水沖洗后在浸蝕面上滴些酒精,再用濾紙吸去過多的水和酒精,迅速用吹風(fēng)機吹干,完成整個制備試樣的過程。

  以上內(nèi)容就是對金相顯微鏡的試樣制備過程是怎樣的介紹了,金相顯微鏡不僅能觀察物體的輪廓、表面等,還能加上DIC后,在材料顯微分析中使用微分干涉相襯法觀察物體,能夠容易判斷許多明場下所看不到的或難于判別的一些結(jié)構(gòu)細節(jié)或缺陷,常應(yīng)用于觀察導(dǎo)電粒子,壓迫等。

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